Ключевые процессы изготовления полупроводниковых структур: формирование фоторезистивной маски и химико-механическая полировка поверхности пластин

АО «НИИМЭ» - ведущий российский научно-исследовательский центр по проведению научно-технологических исследований в области микро- и наноэлектроники, разработке и производству полупроводниковых изделий

Модуль может быть использован в составе программ бакалавриата и магистратуры по направлениям «Конструирование и технология электронных средств» и «Электроника и наноэлектроника» как дисциплина по выбору студента или факультатив, программ дополнительного образования повышения квалификации в области технологии производства наноразмерных полупроводниковых приборов и интегральных схем, а также как самостоятельный курс кратковременного повышения квалификации

Продолжительность

96 академических часов:

• 72 часа – лекции, лабораторные и практические занятия
• 24 часа – изучение дополнительных материалов, выполнение заданий, консультации с преподавателями

Удостоверение о повышении квалификации

5-15 человек

Очный, очно-заочный, дистанционный, гибридный (регулируется объемом выбранных часов)

Описание курса

Программа направлена на формирование компетенций по ключевым процессам изготовления полупроводниковых структур в режиме применения новейших материалов и высокотехнологичного оборудования

Модули