Фотолитография как ключевой технологический процесс в производстве ИМС

АО «НИИМЭ» - ведущий российский научно-исследовательский центр по проведению научно-технологических исследований в области микро- и наноэлектроники, разработке и производству полупроводниковых изделий

Модуль может быть использован в составе программ бакалавриата и магистратуры по направлениям «Конструирование и технология электронных средств» и «Электроника и наноэлектроника» как дисциплина по выбору студента или факультатив, программ дополнительного образования повышения квалификации в области технологии производства наноразмерных полупроводниковых приборов и интегральных схем, а также как самостоятельный курс кратковременного повышения квалификации

Продолжительность

72 академических часа лекций и практических занятий

Удостоверение о повышении квалификации

Дистанционный

Неограничен

Описание курса

Модули

Программа направлена на формирование компетенций по разработке технологических процессов и процедур контроля фотолитографии в производстве наноразмерных полупроводниковых приборов и интегральных схем и разработке процедур и технологических маршрутов для аттестации технологических процессов фотолитографии в производстве наноразмерных полупроводниковых приборов и интегральных схем