Базовый курс по аддитивным технологиям (HARZ Labs)

Ключевые процессы изготовления полупроводниковых структур: формирование фоторезистивной маски и химико-механическая полировка поверхности пластин
Микроэлектроника и фотоника
90 часов
АО НИИМЭ

Образовательная организация

АО «НИИМЭ» - ведущий российский научно-исследовательский центр по проведению научно-технологических исследований в области микро- и наноэлектроники, разработке и производству полупроводниковых изделий

Для кого

Модуль может быть использован в составе программ бакалавриата и магистратуры по направлениям «Конструирование и технология электронных средств» и «Электроника и наноэлектроника» как дисциплина по выбору студента или факультатив, программ дополнительного образования повышения квалификации в области технологии производства наноразмерных полупроводниковых приборов и интегральных схем, а также как самостоятельный курс кратковременного повышения квалификации
Продолжительность
96 академических часов:
  • 72 часа – лекции, лабораторные и практические занятия
  • 24 часа – изучение дополнительных материалов, выполнение заданий, консультации с преподавателями

Стоимость

Документ по окончании обучения

Удостоверение о повышении квалификации

Формат обучения

Размер группы

5-15 человек

50 000* рублей

*цена уточняется по запросу

Очный, очно-заочный, дистанционный, гибридный (регулируется объемом выбранных часов)

Описание курса
Программа направлена на формирование компетенций по ключевым процессам изготовления полупроводниковых структур в режиме применения новейших материалов и высокотехнологичного оборудования
Модули
  1. Методы разработки технологических процессов химико-механической планаризации
  2. Методы исследования новых расходных материалов, применяемых для процессов химико-механической планаризации
  3. Методы оценки эффективности оборудования для процессов химико-механической планаризации.
Подать заявку на обучение